株式会社高周波ネッスル

株式会社高周波ネッスルは誘導加熱装置製造販売・高周波誘導加熱装置・高周波ロー付・ハンダ付装置などを扱っている企業である。電磁波を生み出すエレクトロニクス技術や製品を作り出す機会術、システムを制御していくデバイス技術など複合技術を高度に融合している。高周波加熱装置開発にかけては世界水準で最大限・最高値のパフォーマンスを達成している企業である。

基本情報

住所 〒 146-0095
東京都大田区多摩川1丁目9番12号 Faceビル
設立年度 1989/3
創業年度 1986/3
資本金等 10,000,000円
代表者 玉田祐治
URL http://www.hfn.co.jp/
お問い合わせURL
AIスコア 二十一式人工知能付与信審査回路(提供元:H.I.F株式会社)による簡易的な与信審査の結果を掲載しております。スコアの説明は「H.I.Fの審査とは?」をご確認ください。
売上 1億~3億
従業員数 6~10名
経営者の年齢
事業所数
店舗数
工場数
決算月
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決算データ

流動資産
固定資産
流動負債
固定負債
資産合計
株主資本
利益余剰金
当期純利益・損失
負債・純資産合計
営業利益
経常利益
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業績

売上高推移(直近3年)

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経常利益推移(直近3年)

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売り上げ順位

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従業員数順位

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